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镀膜波长范围：
193nm~11μm

先进的镀膜设施：

公司拥有30 种类齐全、性能先进的全套物理气相沉积镀膜设施（从日本、美国和德国进口）。包括离子辅助电子枪（eb-iad），离子溅射（ibs），磁控溅射（ms）等镀膜机器。

领先的镀膜开发能力：

公司拥有技术水平卓越的镀膜设计与工艺团队，

可提供全品类镀膜产品及定制化工艺解决方案，具体涵盖：

1. 光通讯领域滤光片（lwdm，cwdm， xgpons等 )

2. 高功率激光镀膜

3. 生物医疗领域滤光片

4. 多元化镀膜工艺开发：可在光学玻璃、光学晶体、si（硅）、ge（锗）等多种基片上，实现 ar（增透膜）、hr（高反膜）、pr（部分反射膜）、pbs（偏振分光膜）、npbs（非偏振分光膜）、ito（导电膜）、金属膜等各类功能膜系的量产工艺开发

5. 滤光膜专项支持：支持单波长、多波长滤光膜的定制开发，适配不同场景下的精准分光需求